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制ITO粉设备

制ITO粉设备

浅析氧化铟锡 (ITO)粉体的制备方法和特点化工论文

2024年12月12日常见的ITO粉体制备方法有液相共沉淀法、溶胶凝胶法、水 (溶剂)热法、喷雾热解法、燃烧法、机械混合法等。目前普遍用于国内企业规模化生产的主要是液相共沉淀法。 2021年1月5日目前ito粉体的制备方法主要包括化学共沉淀法、水热合成法、溶胶凝胶法、喷雾热分解法等：化学共沉淀法是将铟锡盐溶解制备盐溶液，以碱性溶液为沉淀剂使金属阳离子沉一种单分散纳米ITO的制备方法与流程 X技术网2024年11月7日本篇文章深入探讨了ITO粉（氧化铟锡粉体）的组成、独特特性、制备工艺和在显示、光伏、智能玻璃等领域的广泛应用。ITO粉因其高透明性和优异导电性成为触控屏、太阳 ITO粉：高透明高导电，显示触控与太阳能电池的关键材料2021年9月7日在氧化铟锡制备方法中，除去国内外较为成熟的液相化学共沉淀法和均相共沉淀法等化学合成法，机械研磨法一直是一种简单、高效且成本最低的制备方法，但是由于传统卧式立式砂磨机在ITO粉体制备中的工业应用要闻资讯 2022年4月13日 ito粉末是制备ito靶材的原料，粉体的粒径、形貌、比表面积、孔隙率等性质均对ito靶材的性能有较大影响。因此制备均匀、分散性好、粒径小的ito粉是制备高品质ito靶材的关一种超分散ITO粉的制备方法与流程 X技术网2024年5月7日本发明属于材料制备技术领域，具体涉及一种ITO粉体的制备方法，包括将设定比例的四水氯化铟和无水乙醇混合均匀，经分散处理后得到混合液；将设定比例的五水氯化一种ITO粉体的制备方法CNA PatentGuru

一种金属铟和金属锡制备超细ITO粉的方法与流程

2019年1月18日针对背景技术中存在的问题，本发明提出了一种金属铟和金属锡制备超细ito粉的方法，采用热球磨机作为反应设备，完成金属铟和锡的同步氧化和氧化物同步细化，实现超细 ITO复合粉体的制备方法有很多种,常用的方法有共沉淀法、水热法、低温制备法、溶胶凝胶法、喷雾燃烧法、减压挥发氧化法等。其中共沉淀法工艺流程简单, 实验条件也较易控制 ,环境污染纳米铟锡氧化物ITO粉制备方法行业资讯铋粒碲粉铟 2016年3月27日氧化铟锡（ITO）是一种锡掺杂的半导体材料，铟消费量的80％以上用于铟锡氧化物透明电极。由ITo纳米粉体制成靶材，然后通过直流磁控溅射制成的ITo薄膜，是一种重掺化学液相共沉淀法制备ITO纳米粉体的工艺研究豆丁网ITO薄膜的制备主要集中于采用溅射法与沉积法直接在材料上形成功能性的薄膜从经济效益上看这种制备工艺限制了ITO粉体的应用。目前制备纳米ITO粉的方法有很多种如溶胶凝胶法、共沉制ito粉设备2020年10月23日本发明涉及氧化铟锡造粒粉领域，尤其是涉及一种实心球体ito造粒粉的制备方法。背景技术ito薄膜导电性能良好，可见光透过率高，是一种很好的透明电极材料，被广泛应用于平板显示、太阳能电池、电致变色等领域。一种实心球形ITO造粒粉的制备方法与流程 X技术网2021年8月2日 ITO 溅射靶材应用 ITO溅射靶材及其衍生品如ITO薄膜、ITO玻璃等，在各行各业有着广泛的应用。ITO靶材常用于制造液晶显示器（LCD）、平板显示器、等离子显示器和触控面板等显示器的透明导电涂层。ITO薄膜用于有关于 ITO 溅射靶材你需要知道的一切电子工程专辑 EE

ITO薄膜的制备方法及工艺（溅射工艺写的很详细

2023年4月14日总之，溶胶凝胶法无需真空设备，工艺简单，适用于大面积且形状复杂的基体，对基体无损伤，对ITO薄膜的大型产业化有非常重要的作用。用溶胶凝胶法制备光电性具佳的ITO膜受到很多因素的影响，其中包括：掺Sn比例、金属离子浓度、提拉速度、烧制温度等。2 结果与讨论 21 浆料固相含量对松装密度和流动性的影响浆料固相含量是指在制浆过程中固体粉末与去离子水的质量比，它对造粒后的粉末颗粒粒径和形貌有重要影响。REVERCHO等[14]的研究表明一定范围内提高固相含量可得到球形度高、粒径大的颗粒，但固相含量提高到一定值时形成的纳米ITO粉末的离心喷雾造粒工艺百度文库2015年9月6日用该 ITO 造粒粉末经冷等静压成形制坯和常压烧结制备靶材，压坯和烧结坯的致密度可达到 61． 7％和 99． 27％。关键词：离心喷雾干燥；ITO 粉造粒；成球率；松装密度；相对密度中图分类号：TB34，TB 332 文献标识码：A 文章编号：1673 — 0224(2014 纳米ITO粉末的离心喷雾造粒工艺道客巴巴2021年6月17日其主要缺点为：靶材尺寸受设备压力和压缸的限制，制备大尺寸靶材困难。 13粉浆浇筑成形粉浆浇注是将粉末与其特定的液体制成一定浓度的悬浮粉浆，注入具有所需形状的模具中，通过模具吸水作用使悬浮液固化，制得具一定形状的素坯的一种成形方法。高致密ITO靶材制备工艺的研究现状及发展趋势期刊网2019年1月18日本发明属于材料冶金领域，更具体的，涉及一种热球磨氧化制备超细ITO粉末的方法。背景技术铟锡氧化物(Indiumtinoxide，ITO)具有高透光率、低电阻率、制膜硬度高、良好化学稳定性和蚀刻性能等优点，广泛应用于液晶一种金属铟和金属锡制备超细ITO粉的方法与流程2014年9月7日）摘要:对高端薄膜所用高密度ITO靶材的主要成形、烧结工艺如：等静压成形、粉浆浇注成形、热压成形、爆炸压实成形进行了阐述。分析了其各自的成形原理、优缺点及发展现状。并指出了现阶段ITO靶材所面临的技术难题：结瘤现象严高密度ITO 靶材的成形工艺及理论分析豆丁网

一种ITO废靶重制ITO粉、高密度靶材及其制备方法与流程

一种ito废靶重制ito粉、高密度靶材及其制备方法技术领域 1本发明属于ito靶材生产技术领域，具体涉及一种ito废靶重制ito粉、高密度靶材及其制备方法。背景技术： 2o靶材是一种铟锡复合氧化物陶瓷材料，基于该靶材制备的半导体薄以纳米氧化铟锡(ITO)粉末为原料,采用离心喷雾造粒技术制备高性能ITO造粒粉体,通过SEM,激光粒度仪及松装密度仪等手段研究浆料固相含量,粘结剂含量及雾化器转速对干燥粉体形貌,粒径分布,流动性和松装密度的影响结果表明:当浆料固相含量为50%,粘结剂为1%纳米ITO粉末的离心喷雾造粒工艺百度学术图1为制备ITO粉体实验装置图。图1 微波强化喷雾热解法制备ITO粉体的实验装置图 Fig 1 Schematic diagram of the experimental setup preparing ITO by microwave enhanced ultrasonic spray pyrolysis 122制备ITO粉体工艺流程图制备ITO粉体工艺流程如图2所喷雾热解法制备ITO粉体的研究*参考网 fx361cc2022年1月21日三井金属公司过滤式成形模法（MitsuiMembraneFilterMMF） ITO靶材工艺 1ITO粉的制备将氧化铟(In203)、氧化锡(SnO2)等原料粉末混合，煅烧产生In203母相及微细In2Sn3012粒子混合物。具有特定形状的微细In2Sn3012粒子，其特征（图11）从粒子之虚拟中心超高密度ito靶材制备mmf法豆丁网2012年10月26日化工设备授课老师：**华第二章混合与制粒设备概述制粒是片剂生产中主要工艺流程之一，分为湿法制粒和干法制粒。湿法制粒为常用且有效的制粒法，由混合、制湿粒及颗粒干燥三部分组成，其中混合和制湿粒有时在同一台机器中完成。第二章混合与制粒设备ppt 豆丁网2010年10月25日 1．2纳米ITO粉体的制备方法目前对ITO的研究主要侧重于ITO薄膜材料的研究。通过对分散纳米ITO粉来制备导电浆料从而成膜，有助于复杂形状和大面积的制膜产业化，关于这方面报道很少。制备纳米ITO粉体的方法很多，大致可以分为以下三纳米ITO粉体与浆料的制备及其性能豆丁网

铟锡氧化物（ITO）粉体及高性能ITO靶材的制备与研究

2012年1月14日等静压制备ITO靶材的相关工艺成功地制备了外形规整的密度大于99%的圆柱形ITO靶材综述了ITO靶材市场需求的概况以及近几十年来ITO粉体ITO靶材的研究现状和发展趋势简要地总结了热等静压法以及烧结法制备ITO靶材在制备工艺2022年4月13日一种超分散ito粉的制备方法技术领域 1本发明属于ito粉生产领域，具体涉及一种超分散ito粉的制备方法。背景技术： 2中国是世界上铟锭的主要生产地，铟资源丰富，全球70%的铟来源于中国，但是大部分以低附加值的原生铟出口，导致大量的铟资源流失，经过国外加工又以高价购买附加值产品。一种超分散ITO粉的制备方法与流程 X技术网本发明涉及ito废靶处理技术领域，具体为一种用ito废靶重制ito粉的方法。背景技术ito溅射靶材是由in2o3和sno2组成的氧化物烧结体，ito靶材镀膜利用率一般仅为60％，余为ito废靶。此外，在ito靶材制备过程中不可避免的会产生边角料、切屑等，这些物质皆可以作为再生铟的来源。目前，ito废一种用ITO废靶重制ITO粉的方法与流程 X技术网2020年5月8日本发明涉及一种氧化铟锡靶材的生产方法，特别涉及一种超高密度细晶氧化铟锡靶材的生产方法。背景技术氧化铟锡靶材（ito靶材）是一种电子陶瓷材料，主要用于磁控溅射镀制ito膜。ito膜是一种透明的导电性薄膜，用于制作显示器、触摸屏、led等需要透明电极的电子设备及元器件。ito靶材在使用一种超高密度细晶ITO靶材的生产方法与流程 X技术网2018年10月25日 l 图4 pH值为8，不同煅烧温度下所得到的ITO粉体的xRD图表2 不同pH值和煅烧温度与所制得的 ITO纳米粉末晶粒的关系 2日 } 图3 不同pH值和煅烧温度为650℃下所得到的ITO粉体的xRD图反应终点pH值对IT0粉体粒度的影响，是由于在胶体悬浮液中，存在一种由表面电荷或毒电势引起的作用力。化学共沉淀法ITO纳米粉末的制备与表征PDF 原创力文档项目采用无压烧结工艺，年产高性能大尺寸无压烧结ITO靶材20吨。项目总投资11600万元，改造厂房2000m2，进口制粉、粉处理、烧结设备。项目方联系留言中国行业咨询网研究报告分析小麦制粉机械市场现状和小麦制粉机械发展前景;报告显示《 2013年版中国ITO 导电玻璃项目可行性研究 2013年版 ito制粉

ITO靶材的制备及其性能研究豆丁网

2011年3月18日的混合气氛中雾化制得粉体，该粉体具有氧化物层外壳和金属核心的结构，这种粉体用于热等静压制备ITO靶材能够使整个靶体内氧的含量精确而且化学成分均匀。该公司报道的另外一种熔体氧化工艺为：用等离子弧熔融h1．Sn合金，3 纳米 ITO 粉体团聚与分散 31 纳米 ITO 粉体的团聚分析常见的共沉淀法制备I T O粉多数是在盐酸体系下，先将金属铟溶解，然后加入锡盐制备混合液，选取氨水作为沉淀剂，共沉淀反应制备前驱体，陈化后再经过纳米ITO粉体的团聚与分散分析百度文库ITO原料，ITO粉，称为ITO靶材。将ITO靶材沉积到PET基板上，就形成ITO导电薄膜；将ITO靶材沉积到玻璃基板上，就形成ITO 2沉积工艺必须在真空环境下，而且需要昂贵的真空沉积设备，并且维护成本高。 3沉积过程中只有不到30%的ITO靶材被溅射到导电薄膜ITO的应用、缺陷和替代材料知乎2023年4月21日本发明涉及氧化铟锡(ito)粉体的制造，特别涉及一种zn掺杂氧化铟锡(ito)粉体及其制备方法。背景技术： 1、氧化铟锡(indium tin oxide，ito)是由in2o3固溶sno2形成的n型半导体，具有高可见光透过率、低电阻率的特点，已广泛应用于液晶显示屏、触摸屏、发光二极管、太阳能电池等领域。一种Zn掺杂氧化铟锡粉体及其制备方法 X技术网IT0(TindopedIndiumOxide)即氧化铟锡，是一种η型半导体材料，使用ITO革巴材，通过真空镀膜等途径制备的ITO薄膜已成为TFT1XD、PDP等平板显示器不可或缺的关键材料，也促使ITO靶材发展成令人瞩目的战略性高科技产业。靶材的品质直接决定薄膜性能的好坏，但国内镀膜厂家使用的高端ITO靶材一直依赖进口一种制备高性能ito造粒粉的方法 X技术网2011年5月31日研究了分散剂对ITO纳米粉体粒径的影响。用激光粒度仪、XRD、SEM对所得粉末进行表征。结果表明:随着分散剂的分子量的增加,所得ITO的粒径逐渐变小;加入不同分子量的PEG配合使用有利于制备纳米级颗粒,加入PEG(10000 6000=11)作分散剂所制ITO粉末粒径分散剂对铟锡氧化物(ITO)粉末粒径的影响豆丁网

一种实心球形ITO造粒粉的制备方法与流程 X技术网

2020年10月23日本发明涉及氧化铟锡造粒粉领域，尤其是涉及一种实心球体ito造粒粉的制备方法。背景技术ito薄膜导电性能良好，可见光透过率高，是一种很好的透明电极材料，被广泛应用于平板显示、太阳能电池、电致变色等领域。 2021年8月2日 ITO 溅射靶材应用 ITO溅射靶材及其衍生品如ITO薄膜、ITO玻璃等，在各行各业有着广泛的应用。ITO靶材常用于制造液晶显示器（LCD）、平板显示器、等离子显示器和触控面板等显示器的透明导电涂层。ITO薄膜用于有关于 ITO 溅射靶材你需要知道的一切电子工程专辑 EE 2023年4月14日总之，溶胶凝胶法无需真空设备，工艺简单，适用于大面积且形状复杂的基体，对基体无损伤，对ITO薄膜的大型产业化有非常重要的作用。用溶胶凝胶法制备光电性具佳的ITO膜受到很多因素的影响，其中包括：掺Sn比例、金属离子浓度、提拉速度、烧制温度等。ITO薄膜的制备方法及工艺（溅射工艺写的很详细 2 结果与讨论 21 浆料固相含量对松装密度和流动性的影响浆料固相含量是指在制浆过程中固体粉末与去离子水的质量比，它对造粒后的粉末颗粒粒径和形貌有重要影响。REVERCHO等[14]的研究表明一定范围内提高固相含量可得到球形度高、粒径大的颗粒，但固相含量提高到一定值时形成的纳米ITO粉末的离心喷雾造粒工艺百度文库2015年9月6日用该 ITO 造粒粉末经冷等静压成形制坯和常压烧结制备靶材，压坯和烧结坯的致密度可达到 61． 7％和 99． 27％。关键词：离心喷雾干燥；ITO 粉造粒；成球率；松装密度；相对密度中图分类号：TB34，TB 332 文献标识码：A 文章编号：1673 — 0224(2014 纳米ITO粉末的离心喷雾造粒工艺道客巴巴2021年6月17日其主要缺点为：靶材尺寸受设备压力和压缸的限制，制备大尺寸靶材困难。 13粉浆浇筑成形粉浆浇注是将粉末与其特定的液体制成一定浓度的悬浮粉浆，注入具有所需形状的模具中，通过模具吸水作用使悬浮液固化，制得具一定形状的素坯的一种成形方法。高致密ITO靶材制备工艺的研究现状及发展趋势期刊网

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